隨著塑料製品日溢廣泛的應用，如日化（huà）用品和飲料包裝（zhuāng）容器等，外觀的需要往往要求塑料模具（jù）型腔的（de）表麵達到鏡（jìng）麵拋光的程度。而生產光（guāng）學鏡片、鐳射唱片等模（mó）具對表麵粗（cū）糙度要求極（jí）高，因（yīn）而對拋光（guāng）性的要求也極（jí）高。

拋光（guāng）不僅增加工件的美觀，而且能夠（gòu）改善材料（liào）表麵的耐腐（fǔ）蝕性、耐磨性，還可以使（shǐ）模具（jù）擁有其它優點，如使塑（sù）料（liào）製品易（yì）於脫模，減少生產注塑周期等。因而拋光在塑料模具製（zhì）作過程中是很重要的一道工序。

目前常用的拋光方法有以（yǐ）下幾種：

1.1 機械拋光

機械拋光是*切削、材料表（biǎo）麵塑性變（biàn）形去掉被拋光後的凸部而得到平（píng）滑（huá）麵的拋光方法，一（yī）般使用油石條、羊（yáng）毛輪、砂紙等，以手工操作為主，特殊（shū）零件如（rú）回轉（zhuǎn）體表（biǎo）麵，可使用轉台等輔助工具，表麵質量 要（yào）求高的可（kě）采用（yòng）超精研拋的方法。

超精研（yán）拋是采用特製的（de）磨具，在含有磨料（liào）的研拋液中，緊壓在工件被加工表麵上，作高速旋（xuán）轉運動。利用該技術可以達到Ra0.008μm的表麵粗糙度，是各種拋光方法中最高（gāo）的。光學鏡（jìng）片模具常采用這種方法。

1.2 化學（xué）拋光（guāng）

化（huà）學拋（pāo）光（guāng）是（shì）讓材料在化學介質中表麵微觀凸出的部分較凹部分（fèn）優先溶解，從而得到平滑麵。這種方法的主要優點是不需複（fù）雜設備，可以拋光（guāng）形狀複雜的工件，可以同時拋光很多工件，效率高。化（huà）學拋光的核心問題是（shì）拋（pāo）光液（yè）的配製。化學拋光（guāng）得（dé）到的表麵粗糙度一（yī）般為數10μm。

1.3 電解拋（pāo）光

電解拋光基本原理與化學拋光相（xiàng）同（tóng），即*選擇性的溶解材（cái）料表麵微小凸出部分，使表麵光滑。與化學拋光相（xiàng）比，可以消除陰極反應的影響，效果較好。電化學（xué）拋光過程分為兩步（bù）：

（1）宏觀整平 溶（róng）解（jiě）產物向電解液中擴散，材料表麵幾何粗糙下降，Ra＞1μm。

（2）微光平整 陽極（jí）極化，表（biǎo）麵光亮度提高，Ra＜1μm。

1.4 超聲波拋光

將工件放入磨料懸浮（fú）液中並一起置於（yú）超聲波場中，依*超聲波的振蕩作用，使磨料在工件表麵（miàn）磨削拋光。超（chāo）聲波加工宏觀力（lì）小，不會引起工件（jiàn）變形，但工裝製作和安裝較困難。超聲波加工可以與化（huà）學或電化學方法結合（hé）。在（zài）溶液腐蝕、電解的基礎上，再施加超聲波振動攪拌溶液，使工件表麵溶解（jiě）產物脫離（lí），表麵附近（jìn）的腐蝕或電解（jiě）質均勻；超（chāo）聲波在液體中的空（kōng）化作用還能夠抑製腐蝕過程，利（lì）於表麵光亮化（huà）

1.5 流體拋光

流體拋光是依*高速流動的液體及其攜帶的磨粒衝刷工件表麵達到拋光（guāng）的目的。常用方法有（yǒu）：磨料噴射加工、液（yè）體噴（pēn）射加工、流（liú）體動力研磨等。流體動力研磨是由（yóu）液壓驅動，使攜帶磨粒的液體介質高速（sù）往複（fù）流過工件表麵。介質主要（yào）采用在較低壓力下（xià）流（liú）過性好的特殊化合物（聚合物狀物質）並摻（chān）上（shàng）磨料製成，磨料可（kě）采用碳（tàn）化矽粉末。

1.6 磁研磨拋光

磁研磨拋光是利用磁性磨料在磁（cí）場作用下形成磨料刷，對（duì）工件磨（mó）削加工。這種方法加工效率（lǜ）高（gāo），質（zhì）量好，加工條件容易控製，工作條件好。采用合適（shì）的磨料，表麵粗糙度可以達到Ra0.1μm。

在（zài）塑料模（mó）具加工中所說的拋光與其他行業中（zhōng）所要求的表麵拋光有很大的不同，嚴格來說，模具的拋光應該（gāi）稱為鏡麵加工。它不僅對拋光（guāng）本身有（yǒu）很（hěn）高的（de）要求並且對表麵平整度、光滑（huá）度以及幾何精確度也有很高的標（biāo）準。表麵（miàn）拋光一般隻要求獲得光亮（liàng）的表麵即可。

鏡麵加工（gōng）的標準分為四（sì）級：AO=Ra0.008μm，A1=Ra0.016μm，A3=Ra0.032μm，A4=Ra0.063μm，由於電解拋光（guāng）、流體拋光（guāng）等方法很難精確控製零件的幾何精確度，而化學拋光、超聲波拋光、磁研磨拋光（guāng）等方法的表麵質量又達不到要求，所以（yǐ）精密模具的鏡麵加工還是以機械拋光為主。

機械拋光基（jī）本程序

要想獲得高質量的（de）拋光效果，最重要的是（shì）要具備有高質量（liàng）的油石、砂紙和鑽石研磨膏等拋光工具和輔（fǔ）助品。而拋光程序的選擇（zé）取決於前期加工（gōng）後的表麵狀況，如機械加工、電火花加工，磨（mó）加工等等。機械拋光的一般過程如下：

1、粗拋

經銑、電火（huǒ）花、磨等工藝後的表麵可以選擇轉速在35 000—40 000 rpm的旋（xuán）轉表麵拋光（guāng）機或超聲波研磨機進行拋（pāo）光。常用的方法有利（lì）用（yòng）直（zhí）徑Φ3mm、WA # 400的輪子去（qù）除白（bái）色（sè）電火花層。然後是手工油石研（yán）磨，條狀油石加煤油作為（wéi）潤滑劑或冷卻劑。一般的使用順序為#180 ~ #240 ~ #320 ~ #400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000。許多模具製造商為了節約時（shí）間而選擇從#400開始。

2、半精拋

半精拋主要使用砂紙和煤油。砂紙（zhǐ）的號數依次為（wéi）：#400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000 ~ #1200 ~ #1500。實際上#1500砂紙隻（zhī）用適（shì）於淬硬的模具鋼（52HRC以上），而不適用（yòng）於預硬鋼，因（yīn）為這樣可能會導致預硬（yìng）鋼件表麵（miàn）燒（shāo）傷。

3、精拋

精拋主要使用鑽石研磨膏。若用（yòng）拋光布輪混合鑽石研磨粉或（huò）研磨膏進行（háng）研磨（mó）的話，則通常的研磨順序是（shì）9μm（#1800）~ 6μm（#3000）~3μm（#8000）。9μm的鑽石研磨膏和（hé）拋光布輪可用來去除#1200和#1500號砂紙留下的發狀磨痕。接著用粘氈和鑽石研磨膏進行拋光，順序為1μm（#14000）~ 1/2μm（#60000）~1/4μm（#100000）。

精度要求在1μm以上（包（bāo）括（kuò）1μm）的拋光（guāng）工藝（yì）在（zài）模具加工車間（jiān）中一（yī）個（gè）清潔的拋光（guāng）室內即（jí）可（kě）進行。若進行更加精密的拋光則必（bì）需一個絕對潔淨（jìng）的空間。灰塵、煙霧，頭皮屑和口水沫都有可（kě）能報廢數個小時工作後得到的高精密拋光表麵。

機械拋（pāo）光中要（yào）注意的問題

用砂紙（zhǐ）拋光應注（zhù）意以下幾點：

1、用砂紙（zhǐ）拋光需要利用軟的木棒或竹棒。在拋光圓麵或（huò）球麵時，使用軟木棒可更好的配合圓麵和球（qiú）麵（miàn）的弧度。而較硬的木條像櫻桃（táo）木，則更適用於平整表麵的拋光。修整木條的末（mò）端使其能與鋼（gāng）件表麵形狀保持吻合，這樣可以避免木條（或竹條）的銳角接觸鋼件表麵而造成較（jiào）深（shēn）的劃（huá）痕。

2、當換（huàn）用不同型號的砂紙時，拋光方向應變換45°~ 90°，這（zhè）樣前一種型號砂紙拋光後留下的條紋陰影即可分辨（biàn）出來。在換不同型號砂紙之前，必須用100％純棉花沾（zhān）取酒（jiǔ）精之類的清潔液（yè）對拋光表麵進行仔細的擦拭，因為一（yī）顆很小的（de）沙礫（lì）留在表麵都會毀壞接（jiē）下去的整個（gè）拋光工作。從砂紙（zhǐ）拋光換成鑽石研磨膏拋光時，這個清潔過程同樣重要。在拋光繼續進行之前，所有顆粒和（hé）煤油都必須被完（wán）全（quán）清（qīng）潔幹淨。

3、為了避免擦傷和燒傷（shāng）工件（jiàn）表麵，在用#1200和（hé）#1500砂紙進行拋光時必須特別小心。因而有必要加載一個輕載荷以及采用兩步（bù）拋光法對（duì）表麵進行拋光。用每一種型（xíng）號的（de）砂紙進行（háng）拋光時（shí）都應沿兩個不同方向進行兩次拋光，兩個方向之間每次轉動45°~ 90°。

鑽石研磨拋光應注意以下幾（jǐ）點：

1、這種（zhǒng）拋光必須盡量在較輕的壓力下進行特別是拋光預硬鋼件和用細研磨膏拋（pāo）光時。在用#8000研磨膏拋光時，常用載荷為（wéi）100~200g/cm2，但要保（bǎo）持此載荷的精準（zhǔn）度很難做（zuò）到。

為了（le）更容易（yì）做到這一點，可以在木條上做一個薄且窄的手柄，比如加一銅片；或者（zhě）在竹（zhú）條上切（qiē）去一部分而使其更加柔軟。這樣可以幫助控製拋光壓力，以確保模具表麵壓力不會過（guò）高。

2、當使用鑽石研磨拋光時，不僅是工作表麵要求潔（jié）淨，工作者的雙手也必須仔細清（qīng）潔。

3、每次（cì）拋光時間不應過長，時（shí）間越短，效（xiào）果越好。如果拋光（guāng）過程進行得過長將會造成“橘（jú）皮”和（hé）“點蝕”。

4、為獲得高質量的拋光效果，容易（yì）發熱的拋光方法和工具都應避（bì）免。比如：拋光輪拋光，拋光輪產生的熱量會很（hěn）容易造成“橘（jú）皮”。

5、當拋光過程停止時，保證工件表麵潔淨和（hé）仔細去除所有研磨劑和潤滑劑非常重要（yào），隨後應在表（biǎo）麵噴淋一層模具防鏽塗層。

由於機械拋光主要還是*人工完成，所以拋光技術目前還是影響拋光質量的主要原因。除此之外，還與模具材料、拋光前的表麵（miàn）狀況、熱處（chù）理工藝等有關。優質的鋼材是獲得良好拋光質量的前提條件（jiàn），如果鋼材表麵硬度不均（jun1）或特性上有差異（yì），往往會產生拋光困難。鋼材中的各種夾雜物和氣（qì）孔都不利於拋（pāo）光（guāng）。

不同硬度對拋光工藝（yì）的影響

硬度增高使研磨的困（kùn）難增大（dà），但拋光後的粗糙度減小。由於硬度的增高，要達到較低（dī）的粗糙度所（suǒ）需的拋光時間相應增（zēng）長（zhǎng）。同時硬度增高，拋光過度的可能性相應減少（shǎo）。

工件表麵狀況對拋光工藝的影響（xiǎng）

鋼材在切削機械加（jiā）工的破碎過程中，表層會因熱量、內應（yīng）力或其他因素（sù）而損壞，切削參數不當會（huì）影響拋光效果。電火花加工後的（de）表麵比普通機械加工或熱處理後的表麵更難研磨，因此電火花加工結束前應采用精（jīng）規準電火花修整，否則表麵會形成硬（yìng）化薄層（céng）。

如果（guǒ）電火花精（jīng）修規準選擇不當，熱影響層的深度最大可（kě）達0.4mm。硬化（huà）薄層（céng）的硬度比基體硬度高，必須（xū）去除。因此最好增（zēng）加一道（dào）粗磨加工，徹（chè）底清除（chú）損壞表麵層，構成一片平均粗糙的金屬麵，為拋光加工提供一個良好基（jī）礎。

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