塑（sù）料成型工藝中描述的（de）拋光與其他行業所需的（de）表麵拋光有很大不同，嚴格來說，模具的拋光（guāng）應（yīng）稱為（wéi）鏡麵拋光。它不僅對（duì）拋光

本身有很高的要（yào）求，而且對表麵平整度（dù）、的平滑（huá）度和幾何精度（dù）也有很高（gāo）的標準。表麵拋光通常僅需要光澤表麵。鏡像處理標準

分為四個級別。

　　對於電解拋光、流體拋光的過程中，它是難以準確地控製各部分的幾何精度，由於化學拋光所述超聲波拋光、磁性拋光的、表麵質量不是必需的（de），精密模具主要是基於機械拋光。 。

　　1、半精細拋光主（zhǔ）要使用砂紙實驗室（shì）和煤（méi）油協會。

　　2、精密拋光主要製作金剛石膏（gāo）。通常的磨削（xuē），以除去為9um（＃1800）-6um（＃3000）-um是在殼體＃1200和砂紙（zhǐ）（8000）的＃1500離開頭發的痕跡，拋光布為9um的金剛石研磨膏你可以使用方向盤。然後使用（yòng）1μm（＃14000）至1 /2μ

m（60000）至1 /4μm（＃100000）量級（jí）的氈和金剛石漿（jiāng）料進行拋光（guāng）。要求精度為1微米或更大（包（bāo）括1微米）的拋（pāo）光工藝

必須是絕對清潔的空間，用於拋光模具（jù）。灰塵（chén）、煙霧，頭皮屑和唾液可能具有高精度拋光表麵，可在工作數小時後獲得。

　　3、為了獲得（dé）機（jī）械拋（pāo）光的（de）基本程序，高質量的拋光效果，最重要的是（shì）要有高質量的拋光工具和（hé）砂紙和研磨膏等配件。最重要的是一個複雜的工作環境，需要一個潔淨室。拋光程序的選擇取決於先前加工的表（biǎo）麵狀況，例如、 EDM加工，磨削。

　　4、機械拋（pāo）光（guāng）的一般過（guò）程（chéng）如下。粗拋、銑削（xuē）、電火花、的處理之後磨削表麵可以被（bèi）選擇在35000-40000rpm的（de）旋轉表麵研磨機或超聲（shēng）波粉碎機旋轉。常見的方法是使用直徑（jìng）為3 mm、 WA＃400的輪子去除白色火花層。然後（hòu）手動油石磨，金剛（gāng）石

砂岩和煤油條作為潤滑劑或冷卻劑。一般使（shǐ）用順序是（shì）＃180  - ＃240  - ＃400  - ＃600  - ＃1000。

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